イベント

開催日:2017年01月24日
「第6回 工学院大学先進工学部コロキウム」開催のご案内(1/24)

先進工学部ではイノベーティブな研究連携を実現するために、先進工学部(および教育推進機構)に所属する教員と八王子を中心とする企業の皆様とが、互いの先進的な科学技術に関する研究内容を理解し、共同研究を展開するきっかけとなるよう第6回コロキウム(研究討論会)を開催します。学生にも公開して研究に対する理解を深める機会でもあり、イノベーティブな意見交流に絶好の機会を提供します。皆様から多くご参加いただきますようお誘いいたします。
開催日時 2017年1月24日(火)15:00〜19:00
場所 工学院大学 八王子キャンパス 総合教育棟 1N-338講義室
アクセスマップはこちら
内容
15:00〜15:05 開会の辞
15:05〜15:50 「双性イオン高分子ブラシによる汚れない表面の設計」
講演者:応用化学科 教授 小林 元康
ひも状の高分子を材料表面に生やし、まるで歯ブラシのような構造にした分子組織を「ポリマーブラシ」という。ポリマーブラシは10万分の1ミリという電子顕微鏡でも観察が難しいほどの薄さしかないが、これが材料表面の接着性や防汚性、生体適合性を劇的に変えるはたらきをする。本講演では双性イオンを結合したポリマーブラシを材料に生やすことで、水ですすぐだけで油汚れが落ちる現象とその仕組みを紹介する。
15:50〜16:35 「ワイドギャップ半導体の魅力 〜物性物理からデバイス工学まで〜」
講演者:応用物理学科 准教授 尾沼 猛儀
III-V族窒化物半導体はLED、レーザーダイオード、トランジスタをはじめとする様々な光電子デバイスに用いられている。一方、II-VI、 III-VI族酸化物半導体は透明導電膜などに用いられているが能動デバイスとして実用化された例は少ない。講演ではII-VI、 III-VI族酸化物半導体を中心とする新規ワイドギャップ半導体材料の基礎物性を紹介し、期待されるデバイス特性に関して紹介したい。
16:35〜16:40 閉会の辞
17:30〜19:00 交流会(17号館B1階)
参加費 コロキウム:無料(事前登録必要なし)
交流会:一般・教職員3、000円、 学生 無料(事前登録必要)

※交流会への参加人数を把握するため、学生は事前登録をお願いします。当日申し込みの場合には、交流会費として1、000円を徴収します。一般・教職員については、交流会への事前登録は必要ありません。なお、先進工学部所属の教員・学生の参加登録については、各学科の実行委員が窓口対応いたします。直接実行委員に連絡してください。
主催 工学院大学 先進工学部
後援 八王子商工会議所、多摩信用金庫

テーマに関するご要望・お問い合わせ

工学院大学先進工学部内(wwb1061@ns.kogakuin.ac.jp)

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