関口敦特任教授(教育支援機構)が日本表面真空学会真空と表面の匠賞を受賞

2024/06/06

関口敦特任教授(教育支援機構)は、公益社団法人日本表面真空学会より「真空と表面の匠」賞を受賞し、同称号を授与されました。
この賞は、表面と真空に関する技術に長年専心し、あるいは、オリジナルな技術開発または用途開拓の先鞭をつけた同学会会員に対して「日本表面真空学会真空と表面の匠」の称号を授与するものです。毎年選考は厳正に行われ、過去には該当者がない年もありますが、このたび関口教授が選ばれました。

2024年5月25日(土)に東京大学武田ホールで行われた授与式の様子
2024年5月25日(土)に東京大学武田ホールで行われた授与式の様子

受賞コメント
今回、CVD成膜装置の開発で「真空と表面の匠」賞を受賞することができました｡CVD技術は、シリコン半導体集積回路素子や各種化合物半導体のエピタキシャル成長用として昨今のトレンドデバイス製造に使用されている技術です｡大学で学ぶ化学反応速度論を駆使することで実現することができました｡改めて、大学で学ぶ基礎の重要性を実感しています｡

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「真空と表面の匠」賞受賞者一覧