11月21から22日にフィリピン大学のロスバニョス校で開催された国際学会「The 23rd International Symposium on Advanced Technology (ISAT-23)」において、電気・電子工学専攻1年の月岡知里さん(結晶成長研究室・山口智広教授)が3rd BEST POSTER PRESENTERを受賞しました。
研究題目 : Stability of Source Solution with Ethylenediamine in Cu3N Growth by Mist CVD
月岡さんの今回の発表では、ミスト化学気相成長法による窒化銅成長において、エチレンジアミンの添加が原料溶液の安定化に与える影響を議論しました。
受賞コメント
この度はこのような素晴らしい賞をいただき、心より嬉しく思っております。研究の遂行やプレゼンテーションの準備にあたり、指導教員である山口先生をはじめ、多くの皆様からご指導ご鞭撻を賜りました。この場をお借りして、深く感謝申し上げます。