2025年3月13日に東京都市大学世田谷キャンパスで開催された一般社団法 表面技術協会 第151回講演大会において、電気・電子工学専攻修士2年(受賞当時)の池谷優之さん(電気電子機能材料研究室・鷹野一朗教授)のポスター発表が、第31回学術奨励講演賞を受賞しました。

研究題目：アノード酸化ニオブ及び熱酸化ニオブへの窒素イオン注入における光触媒特性

近年新たな光触媒材料として、酸化チタンのバンドギャップに近く、安定性や無毒性に優れたニオブの酸化物（Nb₂O₅）が研究の対象となっています。池谷さんは、課題となっている可視光の吸収波長領域を拡大するため、窒素をドープすることで光応答を改善してきました。
本研究では、特にイオン注入する酸化ニオブに注目し、アノード酸化法と熱酸化法で形成し両者を比較しました。アノード酸化法では表面に微細な凹凸形状が形成され、光触媒効果が向上することを明らかにしました。ウェットプロセスとドライプロセスを融合した技術が今後の発展につながることが評価されました。
なお、この研究は本学応用化学科阿相研究室との共同研究として実施されています。
講演大会では、56件のポスター発表のうち、10件が受賞しました。